光掩膜技术研发中心

清溢一直奉行技术先导的发展政策，公司成立之初，国内制作大面积光掩模的技术和人才完全空白。在没有任何外来技术援助的情况下，清溢科研人员在成立的第二年，就成功研制了国内首张大面积高精度铬版掩膜版。经过十余年的自主创新和人才培养，形成了完全自主的核心技术和人才团队。

公司于2002年成立光掩模技术研究开发中心，并于2007年经深圳市科技和信息局批准成立依托于清溢的“深圳市光掩模技术研究开发中心”。

目前，清溢研发中心，正以“激活内脑、用活外脑”为方针，走产、学、研相结合的道路，联合国内外相关企业和科研机构开创新技术来源，通过不断的自主科技创新，推动中国高精度大面积掩膜版制造行业赶超国际一流水平。